針對(duì)SINOVATION的新2.1版本的主要增強(qiáng)功能包括：

【建模模塊】

孔：

• 新的孔命令在原有“孔”和“錐形孔”兩個(gè)命令的基礎(chǔ)上進(jìn)行整合，對(duì)部分重復(fù)的功能進(jìn)行了統(tǒng)一處理；
• 簡(jiǎn)化了對(duì)常用孔，如常規(guī)孔，沉頭孔，埋頭孔、螺紋孔、錐形孔、H型孔等的設(shè)置方式，改進(jìn)了操作順序，并且名稱也更加符合機(jī)械設(shè)計(jì)和加工中使用的術(shù)語(yǔ)；

         改進(jìn)了基準(zhǔn)點(diǎn)的選擇方式：

• 新命令中螺紋孔在工程圖上的表示更加符合GB標(biāo)準(zhǔn)畫法，而且增加了螺紋孔標(biāo)準(zhǔn)尺寸序列； 
•  解決了當(dāng)孔深度在一定范圍內(nèi)時(shí)通孔不能完全貫穿的問(wèn)題。

螺紋特征：

• 增加了螺紋特征的參數(shù)設(shè)置，例如：螺距，角度，旋轉(zhuǎn)方向（右旋或左旋），螺紋標(biāo)準(zhǔn)等控制參數(shù)；
• 增加了螺紋尺寸輸入的方式：自動(dòng)、表格、手動(dòng)；
• 實(shí)現(xiàn)了內(nèi)外圓柱面螺紋的符號(hào)表示，并能夠在工程圖中自動(dòng)識(shí)別和引用螺紋特征的屬性信息；
• 在工程圖中，螺紋特征的表示符合機(jī)械制圖國(guó)標(biāo)畫法

陣列:

• 實(shí)現(xiàn)了線性陣列和圓周陣列。
• 線性陣列中可以設(shè)置陣列方向的偏轉(zhuǎn)角度，生成平行四邊形陣列。
•  實(shí)現(xiàn)對(duì)話框中各輸入數(shù)值的參數(shù)化，創(chuàng)建相關(guān)尺寸，包括陣列個(gè)數(shù)、距離、角度等。
• 陣列中創(chuàng)建的尺寸可以通過(guò)“履歷編輯”進(jìn)行修改，并驅(qū)動(dòng)生成新的陣列。
• 線性陣列中可以設(shè)置只陣列源要素，生成“L型”陣列。

拉伸:

• 拉伸對(duì)象劃分更加合理，分為：線列、#線列、草圖、開(kāi)復(fù)合面、構(gòu)成面；
• 拉伸方向選擇更加靈活，在原有基礎(chǔ)上增加了面法向、曲線矢量和視圖方向；
• 拉伸開(kāi)始位置增加了“兩側(cè)對(duì)稱”，結(jié)束位置增加了“離指定面指定距離”功能；
• 拉伸的同時(shí)可以進(jìn)行一些附加的操作，如布爾運(yùn)算、偏置、拔模等 ；
• 拉伸附加的集合運(yùn)算中增加了“集合交運(yùn)算”功能。
• 對(duì)拔模操作進(jìn)行了改進(jìn)，參數(shù)設(shè)置簡(jiǎn)單明了。拔模方向增加“要素基準(zhǔn)-不對(duì)稱角”和“要素基準(zhǔn)-對(duì)
• 稱角”（只在對(duì)稱拉伸時(shí)可用）；
• 偏置方式增加“內(nèi)側(cè)”、“外側(cè)”和“雙側(cè)”方式；
• 拉伸操作更加方便靈活，實(shí)現(xiàn)了通過(guò)鼠標(biāo)進(jìn)行拉伸的操作；
• 實(shí)現(xiàn)了拉伸的預(yù)覽功能；

【通用功能模塊】

打印功能:

• 增加打印設(shè)置，將原本需要在各個(gè)配置文件中配置的內(nèi)容集中到打印界面上管理，提高了功能的易用性。
• 可以指定打印圖紙的輸出位置，選擇打印紙張尺寸，設(shè)定打印份數(shù)，指定打印時(shí)的線型比例，指定打印輸出的線條和字體的顏色等；
• 支持打印預(yù)覽功能
• 打印預(yù)覽效果：
• 增加繪圖儀設(shè)置的圖形化界面， 簡(jiǎn)化繪圖儀設(shè)置步驟。

• 增加一種彈出式提示消息，改善了SV系統(tǒng)中各類消息的提示方式，使消息提示更加直觀；
• 彈出消息的位置、風(fēng)格和消息的類型都是可配置的。其中位置包括左上、左下、右上、右下和中間，風(fēng)格包括直角和圓角，消息類型包括錯(cuò)誤、警告、信息和其他。

尺寸編輯支持變量輸入和關(guān)系式的添加:

• “尺寸編輯”對(duì)話框中支持輸入字符型尺寸值；
• 如果輸入的字符是系統(tǒng)已經(jīng)好的系統(tǒng)變量或全局參數(shù)時(shí)，則提示添加關(guān)系式；
• 添加關(guān)系式成功后，可以進(jìn)行關(guān)系式評(píng)價(jià)，并驅(qū)動(dòng)生成新的圖形。

【草圖】

草圖內(nèi)外環(huán)境區(qū)分:

• 進(jìn)入草圖后，視圖的背景色會(huì)發(fā)生變化，以明顯地區(qū)分草圖內(nèi)外的環(huán)境。

槽口:

•  增加四種槽口類型：直槽口、中心點(diǎn)直槽、三點(diǎn)圓弧槽口、中心點(diǎn)圓弧槽口； 
•  通過(guò)鼠標(biāo)點(diǎn)擊和拖動(dòng)直接完成操作，簡(jiǎn)單快捷；
• 槽口生成時(shí)自動(dòng)標(biāo)注尺寸，并可通過(guò)修改尺寸來(lái)驅(qū)動(dòng)槽口形狀的變化。

要素尺寸拖拽:

要素拖拽

1.   要素拖拽的對(duì)象可以是單個(gè)要素或多個(gè)要素；
2. 鼠標(biāo)指針?lè)旁趫D形上，按住左鍵可直接拖拽，拖拽時(shí)可自動(dòng)判斷約束條件； 
3.  要素拖拽時(shí)鼠標(biāo)光標(biāo)發(fā)生變化，并伴隨預(yù)顯功能；
4.  在拖拽過(guò)程中能夠?qū)崿F(xiàn)捕捉點(diǎn)的功能。

• 尺寸拖拽

1. 鼠標(biāo)指針?lè)旁趫D形上，按住左鍵可直接拖拽； 
2.  尺寸拖拽時(shí)鼠標(biāo)光標(biāo)發(fā)生變化，并伴隨預(yù)顯功能。

最大最小值標(biāo)注:

• 草圖最大最小值標(biāo)注：在草圖的尺寸定義命令中增加了與圓相關(guān)的最大最小值標(biāo)注的功能。

1. 在尺寸定義命令中增加“切點(diǎn)”功能，自動(dòng)求出在圓上與鼠標(biāo)光標(biāo)距離最近的切點(diǎn)，并從切點(diǎn)處標(biāo)出最大最小值尺寸；
2. 可以標(biāo)出兩圓間的最大最小值、圓和點(diǎn)間的最大最小值、圓和直線間的最大最小值。

• 工程圖最大最小值標(biāo)注：在工程圖的水平豎直尺寸命令中增加了傾斜方向的尺寸標(biāo)注，能夠標(biāo)注平行方向或垂直方向的尺寸。其中與圓相關(guān)的傾斜尺寸標(biāo)注即為傾斜方向的最大最小值標(biāo)注。

草圖自適應(yīng):

• 尺寸自適應(yīng)：更改‘尺寸顯示控制’中的默認(rèn)值，使其默認(rèn)選項(xiàng)為‘批注’；默認(rèn)‘批注’時(shí)，即尺寸自適應(yīng)時(shí)，可以實(shí)現(xiàn)尺寸值隨圖形的放大或縮小而相對(duì)地縮小或放大，即尺寸值的大小相對(duì)于屏幕分辨率值的大小不變，包括箭頭的大小。
• 坐標(biāo)軸自適應(yīng)：

1. 實(shí)現(xiàn)坐標(biāo)軸隨圖形的放大或縮小其大小相對(duì)于屏幕分辨率值的大小不變； 
2.   實(shí)現(xiàn)坐標(biāo)軸的回顯線和預(yù)選線相對(duì)于屏幕分辨率值的大小保持不變。

幾何約束優(yōu)化:

• 將原有的幾何約束命令中的定義約束和解除約束去掉，改名為幾何約束顯示；
• 在3DSKT菜單中添加幾何約束定義和幾何約束解除菜單項(xiàng)。各菜單項(xiàng)下面分別包含11個(gè)幾何約束的定義及解除命令。

草圖的保存:

• 在“操作選項(xiàng)”中增加一個(gè)配置項(xiàng)，控制在草圖環(huán)境下直接關(guān)閉文件或SV系統(tǒng)時(shí)，是否對(duì)草圖進(jìn)行保存提示。該選項(xiàng)修改后即時(shí)生效，無(wú)需重新啟動(dòng)SV。

1. 提示保存草圖       

          在草圖環(huán)境下關(guān)閉文件或SV系統(tǒng)時(shí)，會(huì)提示是否保存草圖，然后關(guān)閉文件或退出系統(tǒng)。

1. 自動(dòng)保存

         在草圖環(huán)境下關(guān)閉文件或SV系統(tǒng)時(shí)，不再提示保存，自動(dòng)保存草圖，然后關(guān)閉文件或退出系統(tǒng)。